CJ係列磁控濺射真空鍍（dù）膜機的磁控（kòng）濺射工（gōng）作原理，所謂“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟擊物體，從而（ér）引起物體表麵原子從母體中逸出的現象。早在1842年Grove在實（shí）驗室中就發現了這種現象。磁控濺（jiàn）射靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形，均勻電場和對數電場則分別用於（yú）平（píng）麵靶和同軸圓柱靶。電子在電場作用下，加速飛（fēi）向基片的過程中與（yǔ）氬原子（zǐ）發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電子飛向基片，Ar+在電場作用下，加速（sù）飛向（xiàng）陰極（濺射靶（bǎ））並以高能量轟擊靶表麵，使靶材發（fā）生濺射。 

廣泛應用於家電電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機（jī）按鍵外殼以及儀（yí）器儀表、塑料、玻（bō）璃、陶（táo）瓷、磁磚等表麵裝（zhuāng）飾性鍍膜及工模具（jù）的功能塗層，在鍍製超黑膜、純金裝飾膜、導電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍製預定厚度（dù）的（de）薄膜（mó），並且濺射鍍膜可以在（zài）較大（dà）的表麵上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片（piàn）的附著力強。部分高能量的（de）濺射原子產生不同程度的注入現象，在基片上（shàng）形（xíng）成一層濺射原子與基片（piàn）原（yuán）子相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特殊材料的（de）薄膜，可以使用不同的材料同（tóng）時濺射（shè）製備混合膜、化合膜，還可濺射成TiN仿金膜；
4）、膜（mó）層（céng）純度高，濺（jiàn）射膜層中不會混入（rù）坩（gān）鍋加（jiā）熱（rè）器材料的成份。
5 )、裝備低溫（wēn）離子（zǐ）輔助源，無（wú）需加熱直接常溫冷鍍（dù）成膜，節能省電，提高產能。