HLG係列多弧離子真空鍍膜機工作原理是把真空弧光放電技術用於蒸發源（yuán）的技術（shù），即在真空環境下引燃蒸發源(陰極)，與（yǔ）陽（yáng）極（jí）之間形成自持弧光放電（diàn），既從陰極弧光輝點放出陰極物質（zhì）的離子。由於電流局部的集中,產生的焦耳熱使陰極（jí）材料局部（bù）的爆發性地等離子化，在工件偏壓的（de）作（zuò）用下與反應氣體化合，而沉積在工件（jiàn）表麵上（shàng）形成被鍍的膜層。

1、工（gōng）具行業（鑽頭、硬質合金、銑刀、拉（lā）刀、刀（dāo）頭）
2、汽車工業（yè）（活塞、活塞環、合（hé）金輪轂等）

1、裝備低溫（wēn）離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成膜，節能省電，提高產能。
2、沉積速率高（gāo），鍍膜速度快，覆蓋領域廣，可以在多種產品上鍍製各類裝（zhuāng）飾膜或功能膜，是中、高端產品大量生產的適宜設備。