如何掌控（kòng）真空鍍膜的均勻性
我們先來認識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握（wò）調試鍍膜機是使用（yòng）鍍膜機的關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測試設備的抽真空速度，在測試（shì）過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能（néng）；
2、測試設備的密封性（xìng）能（néng），就是抽到極限後保壓1小時看壓降是否（fǒu）達標，同時排除細小的漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性能，比如傳（chuán）動、加熱、絕緣（yuán）等等（děng）；
4、如果有工藝保證的話（huà）就繼續打樣並（bìng）作測試。
5、所有的測（cè）試應（yīng）作記錄，並有記錄人簽字以及有使（shǐ）用部門或工程部門的人確認簽字

怎麽掌控真空鍍（dù）膜的均勻性？
由（yóu）於車燈鍍膜機原理的不同分為很多種類，僅僅因（yīn）為都需要高真空度而（ér）擁（yōng）有統一名稱。所以對（duì）於不同原理的真空鍍膜，影響均勻（yún）性的因（yīn）素也不盡相同。並且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義，下麵分別說一（yī）下：

均勻（yún）性主（zhǔ）要體現在3方（fāng）麵：
1、厚度上的均勻性，也可以理解為（wéi）粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就（jiù）是1/10波長作為（wéi）單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當好，可以輕鬆將粗糙度控製在可見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧（hú）離子鍍膜機的光學特性來說（shuō），真空（kōng）鍍（dù）膜沒有（yǒu）任何障（zhàng）礙。但是如果是指原子層尺度（dù）上的均（jun1）勻度，也就是說要實現10A甚至1A的表（biǎo）麵（miàn）平整，是現在真空鍍膜中主要的技術含量與技術瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是（shì）說在（zài）薄膜中，化合物的原子組分會由於尺度過小而很容易（yì）的產生不（bú）均勻特性，SiTiO3薄膜，如果（guǒ）濺控濺射鍍膜機過程不科學，那麽實際表麵（miàn）的組分並不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜並非是想要的膜的化學（xué）成分，這也是真（zhēn）空鍍膜的技術含量所在（zài）。
3、晶格有序度的（de）均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。 

下一個：沒（méi）有資料