磁控濺（jiàn）射是一種 (PVD) 工藝，是製造半導體、磁盤驅動器、CD 和光學器（qì）件的主要薄膜沉積方法（fǎ）。以下是磁控濺射中常見的問題。小編列出了可能（néng）的原因和相關解決方案供您參考。

● 問題（tí）一：薄膜灰黑或暗（àn）黑
● 問題二：漆膜表麵暗（àn）淡無光澤
● 問題三：薄膜顏色（sè）不均勻
● 問題四：起皺、開裂
● 問題（tí）五：薄膜表麵有水印（yìn）、指紋（wén）和灰粒

 薄膜灰黑或暗黑 
丨真空度小於0.67Pa；真空（kōng）度應提高到0.13-0.4Pa。
丨氬氣純度小於99.9%；氬氣應更（gèng）換為純度為 99.99%。
丨充氣係統漏氣；應檢查充氣係統以消除漏氣。
丨薄膜未充（chōng）分（fèn）固化；薄膜的（de）固化時間應適當延長（zhǎng）。
丨鍍件排（pái）出的氣體量（liàng）過大（dà）；應進（jìn）行幹燥和密（mì）封。

 漆膜表麵無光澤 
丨薄膜固化不（bú）良（liáng）或變質；應延長薄膜（mó）固化時間或更換底漆（qī）。
丨磁控濺射時間過長；施工時間應適當縮短。
丨磁控濺射（shè）成膜（mó）速度太快；磁控濺（jiàn）射電流或電壓應適當降低。

 薄膜顏色不均勻 
丨底漆噴塗不均；底漆的使用方法有待改進。
丨膜層太薄；應適當提高磁控濺射速率或延長磁控（kòng）濺射（shè）時間。
丨夾具設計不合理；應改（gǎi）進夾具設（shè）計。
丨鍍（dù）件幾何形狀過於複雜；鍍件的轉（zhuǎn）速應適當提高。

 起皺、開裂 
丨底（dǐ）漆噴得太厚；應控製噴霧的厚度（dù）。
丨塗（tú）層粘度過高；應適當降低塗料的粘度。
丨蒸發速（sù）度過快（kuài）；蒸發（fā）速度應適當減慢。
丨膜層太厚；濺射時間應適當縮短。
丨電鍍溫度過高；鍍件的加熱時間應適當縮短。

 薄膜（mó）表麵有水印、指紋和灰粒 
丨鍍件清洗後未充（chōng）分幹燥；應加強鍍前處理。
丨（shù）在鍍件表（biǎo）麵潑水或唾液（yè）；加強文明生產，操（cāo）作人員戴口罩。
丨塗底漆後，手接觸鍍件，表麵（miàn）留下指紋；嚴禁用手觸摸鍍件表麵。
丨有顆粒物，應過濾或除（chú）塵。
丨靜（jìng）電除塵（chén）失敗或噴塗固化環境（jìng）有（yǒu）顆粒粉塵；應更換除塵器並清潔（jié）工作環境。


除以上常用材料外，金屬靶材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅、銦、錫、等（děng），均有在（zài）鍍膜中使用。多質（zhì）靶材如鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、矽鋁、釩錸（lái）、鎢鉬等。

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