最直接的鍍膜控製方法是（shì）石英晶體（tǐ）微量平衡法(QCM)，這種儀器可以直接驅動蒸發源，通過PID控製循環驅（qū）動擋板（bǎn），保持蒸發（fā）速率。隻（zhī）要將儀器與係統控製軟件相連（lián）接（jiē），它就可以控製整個的鍍膜過程。但是(QCM)的精確（què）度是有（yǒu）限的，部分原因是由於它監控的是被（bèi）鍍膜的質量而不是其光學厚度。
    此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時，它（tā）會變得對溫度非（fēi）常敏感。在長時間的（de）加熱過程中，很難阻止傳感器跌入（rù）這個敏感區域，從而對（duì）膜層造成重大誤差。
    光學監控是高精密鍍膜的的首選監控方式，這是因為它可以更（gèng）精確地控製膜層厚度(如（rú）果運（yùn）用得當)。精確度的改進源於很多因素,但最根本的原（yuán）因是對（duì）光學厚度的監（jiān）控。
    OPTIMAL SWA-I-05單波長光學監控係統，是采（cǎi）用間接（jiē）測控，結合汪博士開（kāi）發的先進光學（xué）監控軟件，有效提高光學反應對膜厚度變化靈敏度的理（lǐ）論（lùn）和方法來減少終極誤差，提供了反饋或傳（chuán）輸的選擇模式和大範圍的監測波長。特別適合於各種膜厚的鍍膜監控包括非規整膜監控。

下一個：懸（xuán）浮式高真空卷繞（rào）式鍍膜機特點