化學氣相沉積是一種製備材（cái）料的氣相生長方法，它是把一種或幾種含（hán）有構成薄膜元素的化合物、單質氣（qì）體通入（rù）放置有基材的反應室，借助空間（jiān）氣相化學反應在基體表麵（miàn）上（shàng）沉積固態薄膜的工藝技術。化學氣相沉積(Chemical vapor deposition，簡稱（chēng）CVD)是反應物質在氣態條件下發生化學反應，生成固態物質沉積在加熱的固態基體表麵，進而製得固體（tǐ）材料的工藝技術。它本質上屬於原子範疇的（de）氣態傳質過程（chéng）。與之相對的是物理氣相沉積（PVD）。