真空鍍膜機電化學沉積指的是（shì）用電化學方法在金屬或非金屬製件表麵（miàn）沉積（jī）一層或多層金屬鍍層或合金鍍層或複合鍍層的技術。通常是，表麵具（jù）有（yǒu）導電能力的（de）製件，於電解質溶液中，被置於（yú）陰極，在外電（diàn）流的作用下，該溶液中的金屬離子，或絡合離子在製件表麵，即陰極表麵（miàn）發生（shēng）還（hái）原反應，使（shǐ）金屬沉積在製件的表麵，這一過程又叫（jiào）金屬電沉積，俗稱電鍍。用真空鍍膜設（shè）備電（diàn）鍍的方法可（kě）以在金屬或非金屬製件表麵得到功能各異的多種鍍層，滿足在不同環（huán）境中對製件的使用要求。
　　它們涉及四大類：耐腐蝕、抗氧化（huà）；耐磨（mó）損、減摩；裝飾、美（měi）化；聲、光、磁、電（diàn）的轉換，以及其他方麵如催化、殺（shā）菌（jun1）等。內容包括單金屬鍍層、合金鍍層、複合鍍層、磷化、鈍化、化學氧化、電化學氧化（huà）等。目前研究方向包括：合金電鍍（dù）、激光電鍍（dù）、微粒（lì）彌散複（fù）合電（diàn）鍍（dù）、纖維增強複合電鍍（dù）、梯（tī）度功能複合電鍍、微弧氧化、納米電龜鍍（dù）與納米多層膜電鍍等（děng）。怎麽挑選市（shì）場上形形色色的真空設備?真空（kōng）鍍膜機電鍍層設計的選用要在了解它們的特性、設計依據、適用範圍、不（bú）宜或不允許使（shǐ）用範圍的基礎上進行（háng），進而確定厚（hòu）度係列與工（gōng）藝。
　　雖（suī）然，它在表麵處理技術中的曆史較長，工藝也比較成熟，但隨著現（xiàn）代工業和技術的飛速（sù）發展，對真空鍍膜設備電鍍層（céng）的功（gōng）能性要求越來越高（gāo），如高的（de）耐腐蝕性、抗氧化性、良好的導電性、高硬度、高的耐磨性以及某些特殊的物理、化學（xué）特性，像特殊的電學性（xìng）質、磁學性質、半導體性能以及（jí）超導性能等，電鍍新技術也不斷（duàn）在（zài）發（fā）展。

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