一. 鍍層（céng）附著（zhe）性能好 

普通真空鍍膜時，蒸（zhēng）發料（liào）粒（lì）子大約隻以一個電子伏特的能量向工件（jiàn）表麵蒸鍍，在工件表麵與鍍層之間，形成的界麵擴散深度通常僅為幾（jǐ）百個埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說比一（yī）根頭（tóu）發絲的百分之一還要小。兩者間（jiān）可以說幾乎沒有連接的過渡（dù）層，好似截然分開。而離子鍍時，蒸（zhēng）發料粒子電（diàn）離後具有（yǒu）三（sān）千到五千電子伏特（tè）的動能。如果說普通真（zhēn）空鍍膜的粒（lì）子（zǐ）相當於一個氣喘籲籲的長跑運動員，那麽離子鍍的粒子則好（hǎo）似乘坐了高速火箭的乘客，當其高速轟擊工（gōng）件時，不但沉積速度快，而且能夠穿透工（gōng）件表（biǎo）麵，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界麵（miàn）擴散深度可達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴（kuò）散深度要深幾十倍，甚至（zhì）上百倍，因而彼此粘附得（dé）特（tè）別牢。對離子鍍後的試件作拉伸試（shì）驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無起皮或剝落現象發生。

二.繞鍍能力強

離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電（diàn）力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位（wèi），均能獲得良好（hǎo）鍍層，這比普通真空鍍膜（mó）隻能在直射方向上獲得鍍層優越得多。因此，這種方法非常適合於鍍複（fù）零件上的內孔、凹槽（cáo）和窄縫。用普通真空鍍膜隻能鍍直射表麵，蒸（zhēng）發料粒子尤如攀登雲梯一樣，隻順梯而（ér）上；離子鍍則能均勻地繞鍍到零件（jiàn）的背（bèi）麵和內孔（kǒng）中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能（néng）夠沿著規（guī）定的航線飛（fēi）抵其活動半徑範圍內的任何地（dì）方。

三. 鍍層質量好

離子鍍的鍍層組織致密、無針（zhēn）孔、無氣泡、厚（hòu）度均勻。甚（shèn）至（zhì）棱（léng）麵和凹槽都可均勻鍍複，不致形成金屬瘤。像螺紋一類的（de）零（líng）件也能鍍（dù）複，由於這（zhè）種工藝方法還能修補工（gōng）件表麵的微小裂紋和麻點等缺陷，故可有效地改善被（bèi）鍍零件的表麵（miàn）質量和物理機械性能。疲勞試（shì）驗（yàn）表明，如果處理得當，工件疲勞壽命可比鍍前高百（bǎi）分之二、三十.