真（zhēn）空鍍膜設備多弧離子鍍膜上的創新方法，所謂多弧離子鍍膜（mó）就是置待（dài）鍍材料和（hé）被鍍基板（bǎn）於室內，

真空鍍膜機多弧離子鍍膜采用一定方法加（jiā）熱待鍍（dù）材（cái）料，使之蒸發或（huò）升（shēng）華，並飛行濺射（shè）到被鍍基（jī）板表麵凝聚成膜的工藝。

多弧離子鍍膜的方法，在條件下（xià）成膜（mó）有很多優點，可減少蒸發材料的原子、分子在飛向（xiàng）基板過程（chéng）中於分子的（de）碰撞，

減少氣體（tǐ）中的活性分子和蒸發源（yuán）材料間的化學反（fǎn）應（如氧化等），以及減（jiǎn）少成膜（mó）過（guò）程中氣體分子進入薄膜中成為雜質的量，從而提供膜層的致密度、純（chún）度、沉積速率和與基板的附著力。

真（zhēn）空鍍（dù）膜設備多弧（hú）離子鍍膜工藝不僅避免了傳統表麵處理（lǐ）的不足，且各項技術指標都（dōu）優於傳統工（gōng）藝，在五金、機械、化（huà）工（gōng）、模具、電（diàn）子、儀器等領域有廣泛應用（yòng）。

催化液和傳統處理工藝相比，在技術上有哪（nǎ）些（xiē）創新？

1、多弧離子鍍膜不用電、降低了成本（běn）、成本僅為多弧離（lí）子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之（zhī）一，不鏽鋼的四分（fèn）之一，可反複利用，大大降低（dī）了成本。