磁（cí）控濺射鍍膜技術介紹
作者： 來源： 日（rì）期：2020-06-08 9:18:10 人氣：19559
磁控濺射鍍膜設備是一種具有結構（gòu）簡單、電器控製穩定性好等優點的真空鍍膜機，其工藝技術的選擇對薄膜的性能具有重要影（yǐng）響。
磁控濺射鍍膜技術（shù）在陶瓷表麵裝飾（shì）中（zhōng）采用的工藝流程如下：
陶（táo）瓷片→超聲清洗→裝夾→抽（chōu）本底真空→plasma清洗→加熱→通氬氣→預濺射→抽本底真空→濺射(或多次濺射)→鍍AF膜→破真空卸片→表（biǎo）麵檢驗→性能測試→包裝、入庫。
以上工藝技術是以磁控濺射鍍（dù）膜設備為基礎，選用合適的靶材和濺射工藝，製出超硬的耐磨（mó）鍍層，可以實現材料的高硬度（dù）、高耐磨、高耐劃傷（shāng）特性；
同時，利用NCVM光學膜結構設計，設計出各層不同折射率（lǜ）材料，可以調配出任意顏色，使得陶瓷不（bú）僅硬度高、強度高，具備外觀件時尚、美觀的特點，而且不會屏蔽電磁信號。
磁控濺射鍍膜設備配合NCVM工藝，能夠實現對（duì）於陶瓷電子消費品的表麵裝飾處理，在保證陶瓷強（qiáng）度和硬度的同時，也能夠提升其美觀性（xìng）和藝術性，更好地滿足消費者的個性化（huà）需求。
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