真空鍍膜技術是一種新穎的材料（liào）合（hé）成與加工技術，是表麵工程技術領（lǐng）域的重要組成部分；

起源於20世紀30年代，直到80年代才形成工業化大規模生產，廣泛應（yīng）用於電子、裝潢裝飾、通訊、照明等工業（yè）領域。

是在真空環境下，金屬或金屬氧化物變成氣態原子或分子，沉積在金屬或非金屬（shǔ）表麵而形成。 

被譽為最具發展前途的重要技術之一，並在高技術（shù）產業化的發展中展現出誘人（rén）的市場前（qián）景。

真空的作用

1. 減少蒸發分（fèn）子跟殘（cán）餘氣體（tǐ）分子的（de）碰撞

2. 抑製它們之間的反應

優勢 

低耗能、無毒、無廢液、汙染小、成本低、裝飾效果好、金屬感強。