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真空蒸鍍(dù)之工藝對比

作者: 來源: 日期:2020-09-02 11:14:18 人氣:183429
1. 電阻蒸發(fā)源蒸鍍發  


A. 加熱:高熔點金屬做(zuò)成適(shì)當形狀蒸發源,電流通(tōng)過直接加熱。 


B. 優點:結構簡(jiǎn)單、造價便宜、使用可(kě)靠(kào)


C. 缺點:所能到(dào)到的最高溫度有限,加熱器壽命較短


D. 適合:熔點不(bú)太高,尤其對膜層質量要求不大(dà)高的大批量生(shēng)產。 


 2. 電子(zǐ)束蒸發(fā)源蒸鍍發 


A. 蒸發(fā)材料放入冷水鉗鍋中,利用電(diàn)子束加熱


B. 優點:獲得更大能量(liàng)密度,使高熔點材料蒸發(fā)且速度快,膜的純度較高,熱效率高。


C. 分類:環形槍,直槍,e型槍和空心陰極槍等幾種。


D. 適合:高熔點,純度(dù)要求高的材料。
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