對於（yú）真空鍍膜機設備的（de）分類（lèi），到底了解多少？
真空鍍（dù）膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜設備，包括真空（kōng）離子蒸發鍍膜機、磁控濺鍍膜機射（shè）、
MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。

主（zhǔ）要是（shì）分成蒸發和濺射兩種（zhǒng）。
在真空鍍膜設（shè）備（bèi）中需要鍍膜的被成為基片，鍍的材（cái）料被成為靶材。
基片與（yǔ）靶材同在真（zhēn）空腔中。
蒸發鍍（dù）膜一般是加熱靶材使表麵組分以原（yuán）子團（tuán）或離子形式被蒸發出來，並且沉降在（zài）基片表麵，通過成膜過程（chéng）形成薄膜。

真空鍍膜機對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利（lì）用電子（zǐ）或高能激光（guāng）轟擊靶材，並使（shǐ）表麵組分以原子團或離子（zǐ）形式被濺射出來，
並且最終沉積在基片表麵，經曆成膜過程（chéng），最終（zhōng）形成薄（báo）膜。爐體（tǐ）可選擇由不鏽鋼、碳鋼或（huò）它們的組合製成的雙層水冷結構。

根據工藝要求選擇不同規格及類型鍍（dù）膜（mó）設備，其類型有電阻蒸發真空鍍膜設備（bèi）、電子束蒸發真空鍍膜設備、
磁控濺射（shè）真空鍍膜（mó）設備、離子鍍真空鍍膜（mó）設備、磁控反應濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和（hé）多弧離子鍍等。
夾具運轉形式（shì）有（yǒu）自轉、公轉及（jí）公轉+自轉方式，用戶可根（gēn）據片尺寸及形狀提出（chū）相應要（yào）求，轉動的（de）速度範（fàn）圍（wéi）及轉動精度：普通可調及變頻調速等。