用來進行介質膜的（de）濺射，如在玻（bō）璃上鍍ITO膜之前需鍍上一層SiO2擴散隔離層，該（gāi）SiO2膜就是采用射頻濺射。
通常在濺射過程中輝光放電中的離子撞擊到陰極時，會與陰極的電子中和，是（shì）的濺射現象可以繼續進行。
但若靶材本身不導電的話，離子撞擊到靶材上沒有（yǒu）電子中和，
正電荷一（yī）直累積，使與後來的離子排斥，這（zhè）會造成取代直流電源，使可解（jiě）決（jué）此離子撞（zhuàng）擊現象（xiàng）的停頓。
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