磁控濺射真空鍍膜機需（xū）要鍍膜的（de）被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片（piàn）與靶材同在真空腔中。蒸（zhēng）發（fā）鍍膜一般是加熱靶材使表麵組分以原子團或離（lí）子形式被蒸發出來。並且沉降在（zài）基片表麵，通過成膜（mó）過程（散點－島（dǎo）狀結構-迷走結構-層狀生長）形成薄膜。 對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，並（bìng）使（shǐ）表（biǎo）麵組分以原子（zǐ）團或離子形（xíng）式被濺射出來，並（bìng）且（qiě）最終沉積在基（jī）片表麵，經曆成膜過（guò）程，最（zuì）終形成薄膜。

使用步驟（zhòu）：
電控櫃操作
1、開水泵、氣源。
2、開總電源。
3、開維（wéi）持泵、真（zhēn）空計電源，真空計檔位（wèi）置V1位（wèi）置，等待其值小於10後，再（zài）進入下一步操作。約需（xū）5分鍾（zhōng）。
4、開機（jī）械泵、預抽，開渦輪分子泵電源、並啟動，真空計開關換到V2位置（zhì），抽到小於2為止，約需（xū）20分鍾。
5、觀察渦輪分子泵讀數到達250以後，關預抽，開前級泵和高真空閥繼續抽（chōu）真空，抽真空到達一定程度（dù）後才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以後才（cái）能打開電子槍電源。

DEF-6B操作：
1. 總電源。
2. 同時開電子槍（qiāng）控製Ⅰ和電子槍控製Ⅱ電（diàn）源（yuán）：按電子槍控製Ⅰ電源、延時開（kāi）關，延時、電（diàn）源及保護燈亮（liàng），三分鍾後延時及保護燈滅，若後門未關好或水流繼電器有故障，保護燈會常亮（liàng）。
3. 開高壓，高壓會達（dá）到（dào）10KV以上，調節（jiē）束流可到200mA左右，簾柵（shān）為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在（zài）1~1.7之間擺動。

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