微信掃一掃 關注草莓视频网站最新動態！真空卷繞鍍（dù）膜(卷對卷)是在真空下應用不同方法在柔性基體上實（shí）現連（lián）續鍍膜的一種技術。它涵蓋真空獲（huò）得、機電控製、高精傳動和表麵分析等多方麵內容。其重點（diǎn）是，在保證鍍膜質量前提下（xià）提高卷繞速率、控製鍍膜穩定性及（jí）實施在線監控。卷對（duì）卷技術成本低、易操作、與柔性基底相（xiàng）容、生產率高及可連續鍍多層膜等優點。第一台真空（kōng）蒸發卷繞鍍膜機（jī）1935年製（zhì）成，現可鍍幅（fú）寬（kuān）由500 至2500mm。卷對卷技術應用由包裝和裝飾（shì）用膜，近年逐漸擴大至激（jī）光防（fáng）偽（wěi）膜、導（dǎo）電等功能薄膜方麵，是未來柔性電子等行（háng）業的主流技術之一。
目前，國際前沿是研究（jiū）不同製備工藝下功能薄（báo）膜特性並完善複合膜層製備。卷繞鍍膜機有（yǒu）向大（dà）型工業化和小（xiǎo）型科研化方向（xiàng）發展的兩種趨勢，國內（nèi）蘭州真空設備、廣東中環真空（kōng）設備等公司（sī）多生產大（dà）型工業卷繞設備， 國（guó）外如TW Graphics 和Intellivation 公司等（děng），主要為科研機構提供小型或微型（xíng）卷繞鍍膜機。
真空卷（juàn）繞鍍膜設備分類
真空（kōng）卷對卷設備由抽真空、卷繞、鍍膜和電氣控製等係統組成。據（jù）真空室（shì）有無擋板，可分單室、雙（shuāng）室和多室結構。單室的收（shōu）放（fàng）卷輥和鍍膜輥在同（tóng）一室中（zhōng），結構簡單但開卷時放氣會汙染真空環境（jìng）。雙室結構將（jiāng）係統用擋板隔成卷繞和鍍膜室，卷輥與擋板間隙約1.5mm，避（bì）免了類似開卷（juàn）放氣問題。多室常用於製備複合薄膜，在雙室基礎上將相鄰鍍膜（mó）區用擋板隔開避免幹擾。如Krebs 等將Skultuna Flexibles AB 的開普頓擋板固定於兩磁控濺射（shè）靶間，板兩側塗覆50μm 的銅層。
分隔擋板與真空室壁狹縫越小越（yuè）好。據鍍膜時輥筒（tǒng）作用分為單主輥和（hé）多主輥卷繞鍍膜（mó）機。據電（diàn）機個數，則可分為兩電機（jī）、三電（diàn）機（jī）和四電機驅動係（xì）統。
總結與展（zhǎn）望
真空卷繞鍍（dù）膜因其大麵積、低成本、連續（xù）性等特點，比間歇式鍍（dù）膜有很大（dà）優勢，廣受（shòu）國內外研究者和（hé）企業關（guān）注。當前卷繞鍍（dù）膜技術進展較（jiào）快，解決了鏤空（kōng）線、白條、褶皺等（děng）問題（tí），開始用於製備石墨烯、有機（jī）太陽能電（diàn）池（chí）和透（tòu）明導電薄膜等新型功能介質與器件。故對製膜過程（chéng）和成膜質量提出了更高要求，真空機組主泵選擇從大抽（chōu）速擴散泵發展到無油超高真空分子泵和低溫泵，開發（fā）出了大包（bāo）角雙冷卻輥鍍膜機（jī）以減小薄膜拉伸（shēn）變形。張力控製多用考慮夾感應張力（lì）的收卷模型（xíng）和單跨非線性動力學的放卷模型。
目前卷繞（rào）鍍膜的精密控製有待提高，例（lì）如（rú）轉印石墨烯時（shí），難以徹底去除基底和石墨烯間的熱解膠，且卷繞速度（dù）過快或基（jī）底較硬（yìng）引發的切應力會（huì）使（shǐ）石（shí）墨烯層形成（chéng）裂縫或孔洞。又如，真空卷繞發製備的有機（jī）薄膜（mó）表麵（miàn）缺（quē）陷多，載流子遷移率較低，進而嚴重影響其器件的光電特性。未來應增設薄膜應力等測控單元，融合CVD、離（lí）子鍍（dù）、高壓靜電紡絲、真空噴射和（hé）原位聚（jù）合等成膜技術，為開發新型有機及其無機複合功能薄（báo）膜和器件提供保障。