真空蒸發鍍膜法（簡稱真空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下（xià），利用高溫加熱蒸鍍材（cái）料（金屬合金或金屬（shǔ）氧化物）到（dào）一定溫度（dù）條件下， 

使其原（yuán）子或分子從表麵汽化逸出，形成蒸汽流，並飛行濺射到玻璃基板表麵凝結形成固態薄膜的方法。

由於真空蒸鍛法的主要物理過程是通過加（jiā）熱蒸發材（cái）料而產生，所以又稱熱蒸發法（fǎ）。蒸發源作為（wéi）蒸發裝置（zhì）的關（guān）鍵部件，

大多（duō）數蒸發材料都要求（qiú）在1000-2000℃的高溫下蒸發。真空蒸鍍法按蒸發源的（de）不同可分（fèn）為電阻法、電（diàn）子束蒸發法（fǎ）、高頻感應法和激（jī）光蒸發法（fǎ）等。