濺（jiàn）射靶材具有高純度、高密度、多組（zǔ）元、晶粒均勻等特（tè）點，一般由靶坯和背（bèi）板組成。

靶坯（pī）屬於濺射靶材的核心部分，是高速（sù）離子束流轟（hōng）擊的目標材料。

靶（bǎ）坯被（bèi）離子撞擊後，其表麵原子被濺射飛散出來並沉積於基板上製成電子薄膜。

由於高（gāo）純度金屬強度較（jiào）低，因此濺射靶材需要在高電壓、高真空的機台環境內完成濺射過（guò）程。

超高純金屬的濺射靶坯需要與（yǔ）背板通過不同的焊接工藝進行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用（yòng），且需要具備良（liáng）好的導電（diàn）、導熱性能。