氣體的分布狀況對於平板基片鍍膜（mó）來說是極其重要的，通過機械結構設計，使氣體密度的變化率在濺射沉積區（qū）域內的盡量小。

而在區域外，使（shǐ）係統的流導盡量的大，以（yǐ）提高氣體的利用率和抽氣係統的效率。

控製（zhì）氣體分布的機械部件或結構包括布氣係統、真空室的結構、抽氣（qì）係統等三（sān）個部分。