什麽是PVD 技術 

PVD-物理氣相沉（chén）積：指利（lì）用物理過程實現物質轉移，將（jiāng）原子或分子由源轉移到基材表（biǎo）麵上的過（guò）程。

它的作用是可（kě）以使某些有特殊性能（強度高、耐磨（mó）性、散熱性、耐腐性等（děng））的微粒噴塗在性能較低（dī）的母體上，使得母體具（jù）有更好的性能。

PVD基本方法：真空（kōng）蒸（zhēng）鍍、濺鍍 、離子鍍（空心陰極離（lí）子鍍（dù）、熱陰極離子鍍、電弧離子（zǐ）鍍、活性反應離子鍍（dù）、射頻離子鍍、直（zhí）流放電離子（zǐ）鍍）。

PVD 技術（shù）是目前國際上（shàng）科技含（hán）量高且被廣泛應用的離子鍍膜技（jì）術，它具有 鍍膜層致密均勻、附著力強、鍍性（xìng）好、沉積速（sù）度快（kuài）、處理溫度低、可（kě）鍍材料廣泛等特點.

PVD 本身鍍膜過（guò）程是高溫狀態下，等離子（zǐ）場下的輝光反應，亦是一個高淨化處理過（guò）程；鍍層的主要原材料是以鈦金屬為主，鈦是金屬中最與人體（tǐ）皮膚具親和性能的，使得PVD 產品本身具備（bèi）純淨的環保性能。