濺射靶材： 濺射靶材（cái）按形狀分類（lèi）：矩形平麵靶（bǎ）材、圓形平麵靶材、圓柱靶（bǎ）材

濺射靶材（cái）按成分分類：單質金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材

平麵靶材利用（yòng）率比較低，隻有30%左右，沿著環形跑道刻蝕。 

靶材冷卻（què）與靶背板（bǎn） 

1. 靶功率密度與靶材冷卻：靶功率越大，濺射速度（dù）越大；靶允許的功率與靶材的性質及冷卻有關；靶材采用直接水冷，允許的（de）靶功率高。

2. 靶背板 target backplane

使（shǐ）用場合：ITO,SiO2,陶瓷等脆性（xìng）靶材及燒（shāo）結靶材Sn(錫）, In（銦）等軟金屬靶；靶材太（tài）薄、靶材（cái）太貴

材質要求：

導（dǎo）熱（rè）性好---常用無氧銅，無氧銅的導熱（rè）性比紫銅好；強度足夠---太薄，容易變（biàn）形，不易真空（kōng）密封。 

結構： 

空心或者（zhě）實（shí）心結（jié）構---磁鋼不泡或泡在（zài）冷水中；厚度（dù）適當（dāng）---太厚，消耗部分（fèn）磁強；太（tài）薄，容易變形。